激光打標機的打標范圍是由場鏡來決定
激光打標機的標刻范圍取決于場鏡,它是工作在物鏡焦面附近的透鏡人們也稱之為:F-Theta場鏡,f-θ場鏡,激光掃描聚焦鏡,平場聚焦鏡。它是在不改變光學系統(tǒng)光學特性的前提下,改變成像光束位置。
場鏡按照波長分可分為:1064nm場鏡(也叫YAG場鏡)、10.6微米場鏡(也叫CO2場鏡)、532nm場鏡(也叫綠光場鏡)、355nm場鏡(也叫紫外場鏡)。一般來說10cm以內(nèi)都可以正常打標,但是打標范圍越大,那精細的程度也就相應降低;并且每個鏡頭都有固定的焦距的。簡說激光打標機中場鏡
以下解釋轉(zhuǎn)摘于百度百科:場鏡的主要作用是:
(1)提高邊緣光束入射到探測器的能力;
(2)在相同的主光學系統(tǒng)中,附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積,可擴大視場,增加入射的通量;
(3)可讓出像面位置放置調(diào)制盤,以解決無處放置調(diào)制器的問題;
(4)使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化;
(5)當使用平像場鏡時,可獲得平場像面;
(6)在像差校正方面,可以補償系統(tǒng)的場曲和畸變。
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